真空環境構建是抗氧化真空烤箱的基礎技術。該過程依賴多級真空抽氣系統實現，初級階段由旋片式真空泵快速抽出大部分氣體，降低箱內氣壓至 10 - 1 Pa 量級，快速建立低真空環境；次級階段則啟用分子泵、渦輪泵等高真空泵，進一步將氣壓降至 10?? - 10?? Pa 的超高真空水平。同時，烤箱采用雙層不銹鋼腔體結構，通過氬弧焊工藝實現無縫焊接，搭配氟橡膠密封圈與金屬密封墊片，確保腔體具備氣密性，防止外界空氣滲入干擾真空環境。此外，真空計實時監測箱內氣壓，通過反饋控制系統自動調節抽氣速率，維持真空度穩定。

防氧化機制則是抗氧化真空烤箱的核心功能保障。一方面，在真空環境下，氧氣含量極低，從根源上減少材料與氧氣的接觸機會，抑制氧化反應發生。另一方面，烤箱內置氣體置換系統，可在真空環境建立后，充入高純惰性氣體（如氬氣、氮氣），進一步稀釋殘留氧氣。惰性氣體密度低于空氣，在箱內形成 “氣體屏障"，阻隔材料與微量氧氣接觸。同時，加熱系統采用特殊設計，采用紅外加熱管或陶瓷加熱元件，避免傳統電阻絲加熱產生的金屬揮發物污染環境，且加熱過程中溫度分布均勻，避免因局部高溫加劇材料氧化。此外，烤箱還配備溫度控制系統，通過 PID 算法精準調節加熱功率，將溫度波動范圍控制在 ±1℃以內，確保材料在設定溫度下穩定處理，防止因溫度異常引發的氧化加速。